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半导体材料的分析


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半导体材料的分析
  • 书号:
    作者:
  • 外文书名:
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    开本:
  • 页数:0
    字数:75000
    语种:
  • 出版社:科学出版社
    出版时间:
  • 所属分类:TN3 半导体技术
  • 定价: ¥0.60元
    售价: ¥0.48元
  • 图书介质:
    纸质书

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内容简介
本书叙述了高纯度的硅、二氧化硅、三氯硅烷、四氯化硅、鍺、二氧化鍺、镓、砷、砷化镓、铟等半导体材料及其中间产品中痕量杂质元素的测定方法,这些方法大部分是化学光谱法,此外也有比色法和极谱法.附录中叙述了高纯石墨的分析方法和高纯物质分析中常用试剂的提纯方法.
本书可供科学硏究机关和产业部门从事上述半导体材料和高纯物质分析工作人员参考,也可供有关高等院校和中等专业学校分析化学教学参考用.
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目录

  • 第一章 高纯硅及其化合物的分析
    §1-1 纯硅和二氧化硅中微量杂质的化学光谱测定
    §1-2 高纯硅、二氧化硅、石英、四氯化硅、三氯硅烷中痕量杂质的化学光谱测定
    §1-3 三氯硅烷中痕量杂质的化学光谱测定
    §1-4 三氯硅烷中痕量鎘、铟、铅、铜、铋的汞齐极谱测定
    §1-5 三氯硅烷和四氯化硅中痕量硼的化学光谱测定(Ⅰ)
    §1-6 三氯硅烷中痕量硼的化学光谱测定(Ⅱ)
    §1-7 三氯硅烷含量的测定
    第二章 高纯锗和二氧化锗的分析
    §2-1 二氧化锗中痕量杂质的化学光谱测定
    §2-2 二氧化锗中痕量硼的化学光谱测定
    §2-3 二氧化锗中微量硼的比色测定
    §2-4 二氧化锗中微量硅的测定
    Ⅰ.目视比色法
    Ⅱ.萃取光度法
    §2-5 二氧化锗中痕量砷的测定
    §2-6 锗及二氧化锗中痕量锑的测定
    §2-7 二氧化锗中痕量钠的测定
    第三章 高纯镓、砷及其化合物的分析
    §3-1 高纯镓中痕量杂质的化学光谱测定
    §3-2 高纯镓中痕量金的比色测定
    §3-3 高纯镓中痕量铁的比色测定
    §3-4 高纯砷及其化合物中痕量杂质的化学光谱测定
    §3-5 高纯砷中痕量杂质的化学光谱测定
    §3-6 高纯砷中痕量锑的比色测定
    §3-7 高纯砷中痕量硒的比色测定
    §3-8 高纯砷中硫的散射浊度法测定
    §3-9 高纯砷和三氯化砷中痕量碲的示波极谱测定
    §3-10 高纯砷和氧化砷中痕量锡的化学光谱测定
    §3-11 高纯镓、砷和氧化砷中痕量硫的比色测定
    §3-12 高纯镓、砷和氧化砷中痕量汞的化学光谱测定
    §3-13 高纯镓、砷和砷化镓中痕量硅的比色测定
    §3-14 砷化镓中痕量杂质的化学光谱测定
    §3-15 砷化镓中碲的方波极谱测定
    第四章 高纯铟的分析
    §4-1 高纯铟中痕量杂质的化学光谱测定
    §4-2 高纯铟中锑、镓、铊、金、铁的化学光谱测定
    附录1 高纯石墨的分析
    Ⅰ.高纯石墨中微量杂质的化学光谱测定
    Ⅱ.高纯石墨中痕量硼的光谱测定
    Ⅲ.高纯石墨中痕量硼的化学光谱测定
    附录2 几种试剂的提纯
    Ⅰ.水
    Ⅱ.盐酸
    Ⅲ.硝酸
    Ⅳ.氢氟酸
    Ⅴ.氢溴酸
    Ⅵ.高氯酸
    Ⅶ.氢氧化铵
    Ⅷ.溴
    Ⅸ.异丙醚
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