0去购物车结算
购物车中还没有商品，赶紧选购吧！
当前位置: 图书分类 > 信息技术 > 电子科学与技术 > 集成电路与光刻机

相同语种的商品

相同作者的商品

销售排行榜

浏览历史

集成电路与光刻机


联系编辑
 
标题：
 
内容：
 
联系方式：
 
  
集成电路与光刻机
  • 书号：9787030657923
    作者：王向朝等
  • 外文书名：
  • 装帧：平装
    开本：A5
  • 页数：133
    字数：70000
    语种：zh-Hans
  • 出版社：科学出版社
    出版时间：2020-08-01
  • 所属分类：
  • 定价： ￥134.00元
    售价： ￥134.00元
  • 图书介质:
    按需印刷

  • 购买数量： 件  可供
  • 商品总价：

相同系列
全选

内容介绍

样章试读

用户评论

全部咨询

光刻机是集成电路制造的核心装备，直接决定了集成电路的微细化水平。本书介绍了集成电路与光刻机的发展历程；重点介绍了光刻机整机、分系统与曝光光源的主要功能、基本结构、工作原理、关键技术等；简要介绍了计算光刻技术；最后介绍了光刻机成像质量的提升与光刻机整机、分系统的技术进步。
样章试读
  • 暂时还没有任何用户评论
总计 0 个记录，共 1 页。 第一页 上一页 下一页 最末页

全部咨询(共0条问答)

  • 暂时还没有任何用户咨询内容
总计 0 个记录，共 1 页。 第一页 上一页 下一页 最末页
用户名： 匿名用户
E-mail：
咨询内容：

目录

  • 目录
    第1章　集成电路发展历程
    1.1　从电子管到集成电路 3
    1.1.1　从电子管到晶体管 3
    1.1.2　从晶体管到集成电路 9
    1.2　集成电路的发展与摩尔定律 15
    1.2.1　摩尔定律的提出 15
    1.2.2　集成电路集成度的提升 17
    1.2.3　集成电路成本的变化 21
    1.2.4　集成电路的后摩尔时代 23
    第2章　集成电路制造工艺
    2.1　平面工艺 28
    2.2　光刻工艺 30
    3.1　接近/接触式光刻机 34
    第3章　光刻机技术的发展
    3.2　投影光刻机的发展 36
    3.2.1　投影光刻机的诞生 36
    3.2.2　投影光刻机曝光方式的演变 37
    3.2.3　步进扫描投影光刻机的发展 42
    3.3　光刻分辨率的提升 45
    第4章　光刻机整机系统
    4.1　光刻机整机基本结构 50
    4.2　光刻机主要性能指标 57
    4.2.1　分辨率 57
    4.2.2　套刻精度 59
    4.2.3　产率 60
    4.2.4　性能指标的提升 61
    4.3　光刻机的技术挑战 63
    第5章　光刻机曝光光源
    5.1　汞灯光源 68
    5.2　准分子激光光源 70
    5.3　EUV光源 73
    第6章　光刻机关键分系统
    6.1　照明系统 79
    6.2　投影物镜系统 83
    6.3　工件台/掩模台系统 88
    6.4　调焦调平系统 93
    6.5　对准系统 96
    第7章　计算光刻
    7.1　光学邻近效应修正 103
    7.2　亚分辨辅助图形技术 104
    7.3　光源掩模联合优化 106
    7.4　反演光刻 107
    第8章　光刻机成像质量的提升
    8.1　光刻机的成像质量与主要性能指标 110
    8.1.1　成像质量的影响因素 110
    8.1.2　成像质量对光刻机性能指标的影响 111
    8.2　光刻机的技术进步与成像质量提升 113
    8.2.1　光刻机成像质量与像质控制 113
    8.2.2　像质控制与光刻机技术进步 115
    参考文献 121
帮助中心
公司简介
联系我们
常见问题
新手上路
发票制度
积分说明
购物指南
配送方式
配送时间及费用
配送查询说明
配送范围
快递查询
售后服务
退换货说明
退换货流程
投诉或建议
版权声明
经营资质
营业执照
出版社经营许可证

中国科技出版传媒股份有限公司　版权所有

　

京ICP备14028887号-5　 京ICP证150976号 京公网安备 11010102004214号

北京东黄城根北街16号 邮编：100717 Email:webmaster@mail.sciencep.com