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先进材料合成与制备技术(第二版)


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先进材料合成与制备技术(第二版)
  • 书号:9787030606105
    作者:李爱东
  • 外文书名:
  • 装帧:平装
    开本:16
  • 页数:541
    字数:864000
    语种:zh-Hans
  • 出版社:科学出版社
    出版时间:2019-03-01
  • 所属分类:
  • 定价: ¥128.00元
    售价: ¥101.12元
  • 图书介质:
    纸质书

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本书旨在向材料相关专业的高年级本科生、研究生和从事材料行业的科研人员介绍先进材料的合成与制备技术。本书共 19 章,其中既包括一些相对成熟的技术,如溶胶-凝胶法、水热法、化学气相沉积、磁控溅射、蒸发沉积、提拉法晶体生长等在先进材料合成与制备中的新应用,又涉及近些年发展起来的材料合成、制备、加工领域的新技术和新工艺,如溶剂热法、高温油相法、微波合成、超声电化学法、限域合成、原子层沉积、原子层刻蚀、团簇束流沉积、激光脉冲沉积、分子束外延、纳米压印、3D 打印和 DNA 自组装纳米技术等。本书包含材料合成与制备技术基本原理的介绍,同时突出材料的先进性和应用的前沿性,反映材料合成与制备技术中的一些最新进展,是理论与实际应用的有机结合。
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全部咨询(共2条问答)

  • qq_田伟81002 ( 2023-01-02 19:06:48 )

    出版社能提供课件等电子资源吗?非常感谢。

  • qq_田伟81002 ( 2023-01-02 19:06:06 )

    请问能提供些作课件有关的可编辑的文字、图、表吗?谢谢

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    第1章 绪论 1
    1.1 材料的发展历史 1
    1.2 先进材料及其重要性 4
    1.3 先进材料的合成与制备技术 10
    参考文献 13
    第2章 溶胶一凝胶法 14
    2.1 概述 14
    2.1.1 溶胶一凝胶法简介 14
    2.1.2 溶胶一凝胶法的主要用途和基本流程 14
    2.1.3 溶胶一凝胶法的优缺点 19
    2.2 溶胶一凝胶法制备薄膜 20
    2.2.1 制备氧化物薄膜 21
    2.2.2 制备硫化物薄膜 24
    2.2.3 制备有机金属卤化物钙钛矿薄膜 26
    2.2.4 制备有机一无机杂化薄膜 27
    2.3 溶胶一凝胶法制备纳米晶 30
    2.3.1 制备氧化物纳米晶 31
    2.3.2 制备金属纳米晶 33
    参考文献 34
    第3章 水热和溶剂热法 38
    3.1 概述 38
    3.1.1 水热法 38
    3.1.2 水热物理化学 39
    3.1.3 水热技术类型 40
    3.1.4 溶剂热法 42
    3.2 水热和溶剂热法在纳米材料制备中的应用进展 43
    3.2.1 金属、半金属及合金纳米材料的合成 44
    3.2.2 二元氧族化合物纳米材料的合成 52
    3.2.3 氮族和碳族化合物纳米材料的合成 58
    3.2.4 多元化合物纳米材料的合成 60
    3.2.5 介孔和介结构材料的合成 62
    3.2.6 复合纳米材料的合成 63
    3.3 水热和溶剂热法在材料合成中的应用展望 68
    参考文献 68
    第4章 高温油相法 72
    4.1 概述 72
    4.1.1 高温油相法简介 72
    4.1.2 高温油相法的三要素 73
    4.1.3 高温油相法的优缺点 74
    4.2 高温油相法成核、生长与提纯机理 74
    4.2.1 均匀成核基础 74
    4.2.2 晶核的后续生长 77
    4.2.3 分离提纯机理 81
    4.3 半导体纳米颗粒的合成与形貌控制 83
    4.3.1 量子点CdSe的合成 84
    4.3.2 纳米棒CdSe的合成 86
    4.3.3 四针状CdSe的合成 87
    4.4 其他纳米颗粒合成 88
    4.4.1 氧化物纳米颗粒合成 88
    4.4.2 金属纳米颗粒合成 91
    4.4.3 多元杂化纳米颗粒合成 92
    参考文献 94
    第5章 微波合成技术 98
    5.1 概述 98
    5.1.1 微波与物质的相互作用 98
    5.1.2 微波技术的特点 99
    5.1.3 微波技术的发展 100
    5.2 微波在材料合成中的应用 101
    5.2.1 微波合成的应用领域 101
    5.2.2 微波促进反应的机理 102
    5.2.3 微波合成中存在的问题 103
    5.3 液相微波合成 103
    5.4 固相微波合成 107
    5.4.1 间歇微波法合成复合材料用于直接甲醇燃料电池 107
    5.4.2 问歇微波法制备掺氮石墨烯用于质子交换膜燃料电池中的Pt催化剂载体 111
    5.4.3 微波法合成超薄用于光催化还原 117
    5.5 小结 123
    参考文献 123
    第6章 超声电化学法 127
    6.1 概述 127
    6.1.1 超声化学法 127
    6.1.2 电化学法 129
    6.1.3 超声电化学法的原理与特点 129
    6.1.4 超声电化学法的分类 130
    6.2 超声电化学法在纳米材料制备中的应用进展 132
    6.2.1 纳米颗粒的可控制备 132
    6.2.2 维纳米材料的制备 137
    6.2.3 树枝状纳米材料的制备 141
    6.2.4 多孔纳米材料的制备 144
    6.2.5 微纳分级结构材料的制备 145
    6.2.6 复合纳米材料的制备 146
    6.3 超声电化学在材料合成中的应用展望 153
    参考文献 154
    第7章 限域合成技术 157
    7.1 概述 157
    7.2 模板合成 157
    7.2.1 硬模板法合成 157
    7.2.2 软模板法合成 170
    7.2.3 气泡模板法 175
    7.3 雾化热解法 177
    7.4 纳米颗粒原位转换法 179
    7.4.1 克肯达尔效应 180
    7.4.2 离子交换法 183
    7.4.3 电镀置换法 185
    7.5 限域合成的优缺点 186
    参考文献 187
    第8章 化学气相沉积技术 191
    8.1 概述 191
    8.2 化学气相沉积原理 192
    8.2.1 化学气相沉积定义 192
    8.2.2 化学气相沉积中的化学反应 193
    8.2.3 化学气相沉积中的化学热力学和动力学 195
    8.2.4 化学气相沉积的特点与分类 196
    8.3 化学气相沉积前驱体和材料 199
    8.3.1 化学气相沉积前驱体的要求和种类 199
    8.3.2 化学气相沉积材料 202
    8.4 化学气相沉积与新材料 204
    8.4.1 金属有机化学气相沉积生长LaAl03栅介电薄膜及其电学性能 204
    8.4.2 新型无水金属硝酸盐化学气相沉积前驱体的合成、表征及其应用 208
    8.4.3 聚焦离子束化学气相沉积在复杂三维纳米结构制备上的应用 214
    8.4.4 化学气相沉积制备金刚石薄膜和碳纳米管 216
    8.4.5 化学气相沉积制备二维材料石墨烯 220
    参考文献 226
    第9章 原子层沉积技术 231
    9.1 概述 231
    9.2 原予层沉积原理、特点及分类 231
    9.2.1 原子层沉积原理 231
    9.2.2 原子层沉积特点 235
    9.2.3 原子层沉积分类 236
    9.3 原子层沉积前驱体和材料 239
    9.3.1 原子层沉积前驱体 239
    9.3.2 原子层沉积材料 241
    9.4 等离子体增强原子层沉积 242
    9.4.1 等离子体增强原子层沉积原理 242
    9.4.2 等离子体增强原子层沉积特点 243
    9.5 原子层沉积应用 244
    9.5.1 高k栅介质和新型半导体沟道材料的集成与性能 245
    9.5.2 超高密度存储器 251
    9.5.3 生物相容性涂层 259
    9.5.4 纳米结构和图案的制备及其在能源与光学领域的应用 261
    参考文献 265
    第10章 原子层刻蚀技术 270
    10.1 概述 270
    10.2 原子层刻蚀原理与特点 270
    10.2.1 基本原理 270
    10.2.2 等离子体原子层刻蚀原理 272
    10.2.3 热原子层刻蚀原理 275
    10.2.4 原子层刻蚀特点 280
    10.3 原子层刻蚀材料 281
    10.3.1 等离子体原子层刻蚀材料 281
    10.3.2 热原子层刻蚀材料 283
    10.4 展望与挑战 283
    参考文献 284
    第11章 团簇束流沉积技术 288
    11.1 概述 288
    11.2 团簇束流的产生 290
    11.3 团簇束流沉积制备纳米结构薄膜 296
    11.3.1 团簇束流沉积纳米粒子薄膜制备技术 296
    11.3.2 团簇束流沉积过程的在线监控 300
    11.3.3 定向团簇束流沉积 302
    11.3.4 团簇束流掠角沉积制备三维纳米粒子柱状多孔阵列 306
    11.3.5 团簇束流沉积制备纳米合金 309
    11.4 荷能团簇束流沉积 310
    参考文献 313
    第12章 脉冲激光沉积技术 317
    12.1 概述 317
    12.2 激光与靶的相互作用 318
    12.2.1 概述 318
    12.2.2 靶对激光的吸收及靶的熔化和气化 319
    12.2.3 表面等离子体形成及与激光的相互作用 321
    12.2.4 碰撞及喷嘴效应 323
    12.2.5 蒸气及等离子体与靶表面的相互作用 328
    12.3 羽焰的传输 330
    12.3.1 概述 330
    12.3.2 激光脉冲结束后表面等离子体的初始膨胀 331
    12.3.3 烧蚀物传输的流体行为一一激波的形成和传输 332
    12.3.4 激波的效应 335
    12.3.5 沉积粒子速度的双峰现象 337
    12.3.6 真空及低气压下烧蚀物对膜表面的再溅射效应 339
    12.4 沉积粒子的化学状态、能量、沉积时间和空间分布 339
    12.4.1 概述 339
    12.4.2 沉积粒子化学状态 339
    12.4.3 沉积粒子能量 341
    12.4.4 沉积时间和沉积速率 343
    12.4.5 沉积粒子的空间分布 343
    12.4.6 脉冲激光沉积与分子束外延的比较 344
    12.5 薄膜的形成及生长 344
    12.5.1 薄膜生长的基本过程 344
    12.5.2 脉冲激光沉积中薄膜生长的特征 345
    12.5.3 薄膜取向控制 346
    12.6 液体中的激光烧蚀 349
    12.6.1 概述 349
    12.6.2 液体中激光烧蚀对硅表面形貌的调制 349
    12.6.3 液体中激光烧蚀制备纳米颗粒 350
    12.7 总结和展望 352
    参考文献 353
    第13章 分子束外延 361
    13.1 半导体分子束外延 361
    13.1 概述 361
    13.1.2 技术原理与系统构成 364
    13.1.3 技术特点 366
    13.1.4 分子束的产生 367
    13.1.5 RHEED监控原理 369
    13.1.6 新型纳米复合材料的分子束外延 370
    13.2 激光分子束外延 371
    13.2.1 概述 371
    13.2.2 高气压RHEED监控 371
    13.2.3 二维薄膜生长——逐层生长和台阶流生长 373
    13.2.4 衬底处理 375
    13.2.5 钙钛矿薄膜、超薄膜和超晶格制备 376
    13.3 氧化物分子束外延 378
    13.3.1 概述 378
    13.3.2 同质外延生长SrTi03薄膜 381
    13.3.3 异质外延生长SrTi03薄膜 384
    参考文献 387
    第14章 磁控溅射 390
    14.1 溅射原理概述 390
    14.1.1 溅射的工作原理 390
    14.1.2 磁控溅射的工作原理 392
    14.1.3 磁控溅射薄膜生长特点 393
    14.1.4 溅射产额 395
    14.2 磁控溅射技术 398
    14.2.1 射频溅射与反应溅射 398
    14.2.2 非平衡磁控溅射技术 400
    14.2.3 高功率脉冲磁控溅射 402
    14.3 磁控溅射应用于材料沉积的实例 404
    14.3.1 磁控溅射Zn0薄膜的生长 404
    14.3.2 磁控溅射铁氧体薄膜的生长 408
    14.3.3 高功率脉冲磁控溅射AIN薄膜的生长 409
    参考文献 411
    第15章 蒸发沉积技术 414
    15.1 蒸发沉积的物理基础 414
    15.1.1 蒸发与凝结 414
    15.1.2 蒸发物质的空间角分布 415
    15.2 蒸发沉积膜层的生长与结构特性 416
    15.3 平坦表面柱状微结构的蒸发沉积 417
    15.3.1 表面扩散与柱状微结构薄膜生长 417
    15.3.2 倾角沉积的微孔柱状微结构生长 418
    15.3.3 预置图案化表面的微孔柱状微结构生长 420
    15.3.4 微孔柱状结构薄膜的物理特性及其应用 421
    15.4 微结构表面的蒸发沉积 422
    15.4.1 蒸发沉积的台阶覆盖性能 422
    15.4.2 定向沉积与沉积膜层的图案化 423
    15.4.3 图案化沉积膜层的遮蔽蒸发沉积 424
    参考文献 430
    第16章 提拉法晶体生长技术 433
    16.1 概述 433
    16.2 提拉法简介 433
    16.3 提拉法晶体生长理论 435
    16.3.1 输运理论 435
    16.3.2 热力学理论 440
    16.3.3 动力学理论 441
    16.3.4 晶体生长形态 442
    16.4 提拉法晶体生长过程 447
    16.4.1 提拉法晶体生长程序 447
    16.4.2 影响晶体生长的因素 448
    16.5 晶体结构与缺陷 451
    16.5.1 晶体结构 451
    16.5.2 晶体缺陷 452
    16.6 提拉法晶体生长技术进展 455
    16.6.1 自动等径控制技术 455
    16.6.2 双坩埚连续加料技术 456
    参考文献 457
    第17章 纳米压印技术 459
    17.1 纳米压印技术的发展 459
    17.2 纳米压印技术的种类 461
    17.2.1 热压印与紫外光固化压印 461
    17.2.2 滚轴压印 462
    17.3 纳米压印胶材料 463
    17.3.1 紫外光固化纳米压印胶材料 463
    17.3.2 双层纳米压印胶体系 465
    17.4 纳米压印的技术挑战 466
    17.4.1 纳米压印的缺陷与对准问题 466
    17.4.2 纳米压印的工艺要求 467
    17.4.3 纳米压印模板与低表面能处理 468
    17.5 复合纳米压印技术 470
    17.5.1 复合纳米压印模板 470
    17.5.2 曲面压印 472
    17.5.3 改善纳米压印缺陷 473
    17.6 纳米压印技术的应用与前景 474
    17.6.1 磁记录与存储器件 474
    17.6.2 粒径单、形貌可控的纳米颗粒 476
    17.6.3 有序金属纳米结构阵列 477
    参考文献 479
    第18章 金属3D打印技术及其粉体材料制备 482
    18.13 D打印概述 482
    18.1.13 D打印技术发展简介 482
    18.1.23 D打印原理及基本流程 484
    18.2 金属3D打印技术 487
    18.2.1 金属3D打印技术分类及技术特点 487
    18.2.2 激光选区烧结与熔化 488
    18.2.3 电子束选区熔化 489
    18.2.4 激光近净成形 491
    18.3 金属3D打印材料 493
    18.3.1 金属3D打印用粉体材料的要求 493
    18.3.2 金属3D打印材料简介 496
    18.4 3D打印用金属粉体材料的制备 500
    18.4.1 水雾化法 501
    18.4.2 气雾化法 501
    18.4.3 超声雾化法 503
    18.4.4其他制备技术 505
    参考文献 507
    第19章 DNA自组装纳米技术 511
    19.1 概述 511
    19.1.1 DNA的分子结构 511
    19.1.2 DNA纳米结构的设计与合成 512
    19.1.3 DNA纳米结构的自组装 512
    19.1.4 DNA纳米结构的表征 513
    19.2 DNA自组装纳米结构 513
    19.2.1 DNA分子瓦二维结构自组装 514
    19.2.2 DNA分子瓦三维结构自组装 516
    19.2.3 DNA折纸术 518
    19.2.4 DNA折纸术二维结构自组装 519
    19.2.5 DNA折纸术三维结构自组装 520
    19.3 DNA自组装结构的动态变化 522
    19.3.1 链置换反应驱动DNA结构变化 522
    19.3.2 环境因素驱动DNA结构变化 525
    19.4 DNA纳米结构的应用 527
    19.4.1 DNA纳米结构引导的纳米材料定向组装 527
    19.4.2 DNA纳米结构的生物医学应用 531
    参考文献 532
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