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金刚石膜制备与应用(下卷)


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金刚石膜制备与应用(下卷)
  • 书号:9787030418234
    作者:吕反修
  • 外文书名:
  • 装帧:圆脊精装
    开本:B5
  • 页数:736
    字数:920
    语种:
  • 出版社:科学出版社
    出版时间:2014-11-03
  • 所属分类:TB9 计量学
  • 定价: ¥188.00元
    售价: ¥148.52元
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本书比较全面、系统、深入地论述了化学气相沉积(CVD)金刚石膜的制备、组织结构和性能表征,金刚石膜化学气相沉积理论,以及在电学(电子学)、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用,在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景。本书分六篇、共29章,第一篇:金刚石膜的制备;第二篇:金刚石膜组织结构和性能表征;第三篇:金刚石膜化学气相沉积理论;第四篇:金刚石膜的应用;第五篇:纳米金刚石膜制备与应用;第六篇:金刚石相关材料的制备与应用。
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