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基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究


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基于脉冲激光沉积富硼B-C薄膜的关键技术研究
  • 书号：9787030553331
    作者：章嵩
  • 外文书名：
  • 装帧：平装
    开本：B5
  • 页数：
    字数：126000
    语种：zh-Hans
  • 出版社：科学出版社
    出版时间：2017-11-01
  • 所属分类：
  • 定价： ￥38.00元
    售价： ￥30.02元
  • 图书介质:
    纸质书

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　　本书旨在利用脉冲激光沉积技术，将其分别采用碳化硼陶瓷靶与硼碳拼合靶为靶材。通过对靶材成分、组成形式及沉积温度等工艺参数的调整，得到表面平整、厚度均匀及成分可控的富硼B-C薄膜，建立靶材成分、组成形式和沉积温度等工艺参数与薄膜组成、结构之间的关系，对该系列薄膜的生长机理进行分析研究。
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    《博士后文库》序言
    前言
    第1章 导论 1
    1.1 激光惯性约束核聚变 2
    1.1.1 激光惯性约束核聚变技术 2
    1.1.2 激光惯性约束核聚变靶丸材料 4
    1.2 B-C系列材料 5
    1.2.1 B-C系列材料的晶体结构 5
    1.2.2 B-C系列材料的研究现状 8
    1.2.3 B-C系列薄膜的研究现状 10
    第2章 富珊B-C陶瓷的制备、结构分析与成分控制 13
    2.1 引言 13
    2.2 实验与测试 14
    2.2.1 实验原料 14
    2.2.2 实验设计与工艺过程 14
    2.2.3 测试方法 15
    2.3 B-C系列陶瓷靶材的烧结致密化 16
    2.3.1 B-C陶瓷烧结体的致密度分析 16
    2.3.2 B-C陶瓷的物相分析 17
    2.3.3 B-C陶瓷的显微结构分析 23
    2.4 不同配比B-C陶瓷靶材的制备与成分控制 27
    2.4.1 不同配比B-C陶瓷的物相结构分析 27
    2.4.2 不同原子比B-C陶瓷的显微结构分析 28
    2.4.3 B-C陶踵的化学组成分析与成分控制 30
    2.4.4 硼、碳原子的化学结构分析 31
    第3章 采用B-C陶瓷靶的富硼B-C薄膜脉冲激光沉积 35
    3.1 引言 35
    3.2 实验与测试 36
    3.2.1 实验原料 36
    3.2.2 实验设计与工艺过程 36
    3.2.3 测试方法 39
    3.3 富硼B-C薄膜的脉冲激光沉积工艺研究 41
    3.3.1 脉冲激光能量对薄膜沉积质量的影响 4
    3.3.2 靶-基距对薄膜沉积质量的影响 46
    3.4 B-C薄膜的成分研究 49
    3.4.1 B-C薄膜的化学组成分析与成分控制 49
    3.4.2 硼、碳原子的化学结构研究 50
    第4章 采用B-C拼合靶的富硼B-C薄膜脉冲激光沉积 53
    4.1 引言 53
    4.2 实验与测试 54
    4.2.1 实验原料 54
    4.2.2 实验设计与工艺过程 55
    4.2.3 测试方法 57
    4.3 B-C拼合靶的脉冲激光沉积工艺研究 58
    4.3.1 基板温度对薄膜沉积质量的影响 58
    4.3.2 靶材自转速度对薄膜沉积质量的影响 64
    4.4 B-C薄膜的成分分析与控制 65
    4.4.1 B-C薄膜的化学组成分析与成分控制 65
    4.4.2 硼、碳原子的化学结构分析 66
    4.5 B-C拼合靶的脉冲激光沉积过程分析 68
    4.5.1 脉冲激光沉积技术 68
    4.5.2 脉冲激光烧蚀靶材过程分析 69
    4.5.3 脉冲激光烧蚀产生等离子体的膨胀行为分析 71
    4.5.4 等离子体羽辉边界的求解 75
    4.5.5 B-C薄膜中原子比的理论计算 77
    本书总结 81
    参考文献 83
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